当前位置:首页 >> 解密信息 >> 技术文档

蚀刻液选择时物理化学方面的要素

时间:2011-07-21 09:17:07

1 物理及化学方面
1)蚀刻液的浓度:应根据金属腐蚀原理和铜箔的结构类型,通过试验方法确定蚀刻液的浓度,它应有较大的选择余地,也就是指工艺范围较宽。

2)蚀刻液的化学成分的组成:蚀刻液的化学组分不同,其蚀刻速率就不相同,蚀刻系数也不同。如普遍使用的酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常是&;碱性氯化铜蚀刻液系数可达3.5-4。而正处在开发阶段的以硝酸为主的蚀刻液可以达到几乎没有侧蚀问题,蚀刻后的导线侧壁接近垂直。

3)温度:温度对蚀刻液特性的影响比较大,通常在化学反应过程中,温度对加速溶液的流动性和减小蚀刻液的粘度,提高蚀刻速率起着很重要的作用。但温度过高,也容易引起蚀刻液中一些化学成份挥发,造成蚀刻液中化学组份比例失调,同时温度过高,可能会造成高聚物抗蚀层的被破坏以及影响蚀刻设备的使用寿命。因此,蚀刻液温度一般控制在一定的工艺范围内。

4)采用的铜箔厚度:铜箔的厚度对电路图形的导线密度有着重要影响。铜箔薄,蚀刻时间短,侧蚀就很小;反之,侧蚀就很大。所以,必须根据设计技术要求和电路图形的导线密度及导线精度要求,来选择铜箔厚度。同时铜的延伸率、表面结晶构造等,都会构成对蚀刻液特性的直接影响。

5)电路的几何形状:电路图形导线在X方向和Y方向的分布位置如果不均衡,会直接影响蚀刻液在板面上的流动速度。同样如果在同板面上的间隔窄的导线部位和间隔宽的导线部位状态下,间隔宽的导线分布的部位,蚀刻就会过度。所以,这就要求设计者在电路设计时,就应首先了解工艺上的可行性,尽量做到整个板面电路图形均匀分布,导线的粗细程度应尽量相一致。特别是在制作多层印制电路板时,大面积铜箔作为接地层,对蚀刻的质量有着很大的影响,所以建议设计成网状图形为宜。

解密技术
解密问题
芯片解密